室田淳一教授が「IV族半導体ヘテロCVD技術による原子制御プロセスの開発」の業績により,応用物理学会から第3回(2009年度)フェロー表彰を受賞することになりました.

この表彰制度は,本会における継続的な活動を通じて応用物理学の発展に多大な貢献をした研究者を表彰するもので,受賞者にはフェローの称号が授与されます.

授賞式は2009年9月8日から開催される2009年秋季応用物理学会学術講演会において行われる予定です.

 

応用物理学会第3回(2009年度)フェロー表彰のページ:http://www.jsap.or.jp/activities/award/fellow/fellow_03.html

 

問い合わせ先

電気通信研究所
ナノ・スピン実験施設
ナノヘテロプロセス研究部

(准教授)櫻庭政夫
TEL:022-217-5549