室田・櫻庭研究室博士前期課程2年の宇藤敦司さんが第14回(2009年)応用物理学会東北支部講演奨励賞を受賞しました.本賞は,若手研究者の研究奨励に貢献するために,2009年応用物理学会東北支部学術講演会において発表された優秀な講演に対して贈られるものです.
受賞内容は,「H2およびAr熱処理によるSi(100)とGe(100)の水素終端構造変化と水素吸着反応」の研究です.

 

応用物理学会東北支部支部講演奨励賞の該当ページ:http://annex.jsap.or.jp/tohoku/awards-list.html

 

問い合わせ先

電気通信研究所
ナノ・スピン実験施設
ナノヘテロプロセス研究部

(教授)室田 淳一
TEL: 022-217-5548
E-mail: murotariec.tohoku.ac.jp