室田・櫻庭研究室 大学院生の川島知之さんが,Best Poster Award (7th Int. Conf. on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-7), Leuven, Belgium, Aug.28-Sep.1, 2011)を受賞しました.

本賞は,国際学術シンポジウムICSI-7で優秀なポスター発表をした研究者個人に授与されるもので,その功績を称えるものです.

受賞内容は,「Behavior of N Atoms after Thermal Nitridation of Si1-xGex Surface」です.

 

ICSI-7のページ:http://www.icsi7.com/

 

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ナノ・スピン実験施設

ナノヘテロプロセス研究室

(教授)室田淳一

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