末光眞希 教授が第11回応用物理学会フェロー表彰を受賞することになりました。これは末光教授のIV族系ガスソースMBE成膜技術とこれを用いたSi基板上エピタキシャルグラフェン開発を中心とした研究が高く評価されたものです。
 この表彰制度は本学会での継続的な活動を通じて、応用物理学の発展に多大な貢献をした本学会正会員を表彰するもので、受賞者にはフェローの称号が授与されます。
 授賞式は本年9月5日、福岡国際会議場(福岡県福岡市)にて開催される第78回秋季学術講演会にて行われる予定です。

 

賞に関する詳細情報URL:

https://www.jsap.or.jp/activities/award/fellow/fellow_11.html

問い合わせ先

東北大学電気通信研究所
情報デバイス研究部門 固体電子工学研究室

(教授) 末光 眞希
(内線5485)