電気通信研究所1号館にて

　本研究室では、超高真空を利用した清浄雰囲気中での薄膜形成技術を用いて、金属や化合物薄膜のナノ構造の制御とそれを利用したデバイス形成に関する研究を行っています。そのため、国内外の企業や研究機関との共同研究を中心に研究を進めています。本研究室は学際科学フロンティア研究所に属しており、平成28年度の研究室の人員構成は、島津教授、企業の共同研究員12名、研究室の研究員3名、学生3名、技術補佐員1名、秘書1名です。本紙面では、近年、特に力を入れている室温接合技術（原子拡散接合法）と、エネルギーアシスト用磁気記録媒体の二つの研究課題を中心に、研究内容をご紹介します。

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