
クリーンルーム(半導体)コース
ナノ・スピン実験施設では、最先端の半導体関連分野の装置・設備を備えたクリーンルームを運用しています。極微細な回路パターンを高精度で描画する電子線描画装置やレーザー描画装置、微細パターンの評価を行う電子顕微鏡や表面測定機器、半導体素子の材料となる様々な物質の薄膜を形成する成膜装置、薄膜を所望の形状に加工するエッチング装置などを備えており、これらの装置・設備の一部は企業など外部の方も利用頂けます。見学コースではクリーンルーム及び機器・設備をご覧頂きながら、施設で行われている研究や、各機器の特徴についてご紹介いたします。
見学情報について
【1回あたりの所要時間】30分程度
【1回あたりの定員】10名
【見学時間】※10/21現在の募集人数
1回目 11:30~12:00 残り3名
2回目 13:00~13:30 残り0名
3回目 16:00~16:30 残り7名
【紹介予定の研究、装置など】
クリーンルーム、電子線描画装置、レーザー描画装置など
【共同利用可能な装置の有無】
あり
<関連リンク>
・電気通信研究所 ナノ・スピン実験施設HP
【1回あたりの定員】10名
【見学時間】※10/21現在の募集人数
1回目 11:30~12:00 残り3名
2回目 13:00~13:30 残り0名
3回目 16:00~16:30 残り7名
【紹介予定の研究、装置など】
クリーンルーム、電子線描画装置、レーザー描画装置など
【共同利用可能な装置の有無】
あり
<関連リンク>
・電気通信研究所 ナノ・スピン実験施設HP
研究室のシーズ・ニーズ紹介
クリーンルーム内の各種装置を用いたプロセスのうち、特にレジスト(感光性物質)を用いて回路パターンを形成するリソグラフィプロセスについては専門の技術職員による受託対応を承っています。電子線描画装置やレーザー描画装置による微細パターンの形成、フォトマスクを用いたリソグラフィプロセス、形成パターンの評価等の他、レジスト塗布やパターン現像なども含めた一連のリソグラフィプロセス用の機器・設備を取り揃えております。様々な材料への回路パターン形成実績がありますのでご興味のある方はお気軽にご相談ください。

