第52回ナノ・スピン工学研究会（地震の為中止となりました）

2011.03.16

研究会名：第52回ナノ・スピン工学研究会（地震の為中止となりました）
開催日：2011年3月16日（水）11:00～12:00
題目：「磁化プラズマ源を用いた先進プロセスの実用化研究」
講師：藤山寛先生（長崎大学大学院生産科学研究科・教授）
開催場所：電気通信研究所ナノ・スピン総合研究棟4階A401号室

第52回ナノ・スピン工学研究会のご案内

下記の通り第52回ナノ・スピン工学研究会を開催致します．

皆様多数ご参集下さいますようご案内申し上げます．

日時：2011年3月16日（水）11:00～12:00
場所：東北大学　電気通信研究所ナノ・スピン総合研究棟4階A401号室
題目：「磁化プラズマ源を用いた先進プロセスの実用化研究」
講演者：藤山　寛（長崎大学大学院生産科学研究科・教授）
要旨：本講演では，プラズマ物理の産業応用の一例として，長崎大学で展開されてきた磁化プラズマを用いたプラズマプロセシングに関する研究を紹介する．これらはプラズマ物理を積極的に利用した反応性プラズマ研究で，特に工場レベルでの実用化を目指した応用研究である．
1．磁化プラズマ化学的気相堆積（CVD）プロセスの開発
1980年代後半に，変調磁界を用いたプラズマCVDによる1m×2mの超大面積均一アモルファスシリコン薄膜の作成に成功し，現在の大面積均一成膜プロセス技術の先鞭をつけた．

2．プロセシング用ECR関連プラズマ源の開発
特殊構造基板（光ファイバー，環状ドリル，医療用細管，ソーワイヤ）へのスパッタコーティング及びエッチング用ECR関連プラズマ源の開発を行い，新しい発想に基づく新しいプラズマ源が新しいプロセス応用を生むことを実践した．

3．磁化プラズマ物理的気相堆積（PVD）プロセスの開発
大面積均一スパッタ用マルチターゲット型マグネトロンプラズマを開発する過程で，磁化プラズマ中のChild-Langmuir則(Fujiyama Formula)を導出し，スパッタターゲットのエロージョンシミュレーションなどに利用されている．

4．水晶振動子のプラズマエッチング法の開発
新規に開発したマグネトロンプラズマによる超高周波駆動用水晶振動子のエッチング技術を開発し，周波数の超精密制御を可能にした．