室田・櫻庭研究室 川島知之さんが,Best Poster Award (7th Int. Conf. on Silicon Epitaxy and Heterostructures)を受賞(2011年8月31日)

室田・櫻庭研究室 川島知之さんが,Best Poster Award (7th Int. Conf. on Silicon Epitaxy and Heterostructures)を受賞(2011年8月31日)

室田・櫻庭研究室 大学院生の川島知之さんが,Best Poster Award (7th Int. Conf. on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-7), Leuven, Belgium, Aug.28-Sep.1, 2011)を受賞しました.

本賞は,国際学術シンポジウムICSI-7で優秀なポスター発表をした研究者個人に授与されるもので,その功績を称えるものです.

受賞内容は,「Behavior of N Atoms after Thermal Nitridation of Si1-xGex Surface」です.

ICSI-7のページ:http://www.icsi7.com/

問い合わせ先

電気通信研究所
ナノ・スピン実験施設

ナノヘテロプロセス研究室

(教授)室田淳一

TEL:022-217-5548