室田・櫻庭研究室 大学院生の川島知之さんが，Best Poster Award (7th Int. Conf. on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-7), Leuven, Belgium, Aug.28-Sep.1, 2011)を受賞しました．

本賞は，国際学術シンポジウムICSI-7で優秀なポスター発表をした研究者個人に授与されるもので，その功績を称えるものです．

受賞内容は，「Behavior of N Atoms after Thermal Nitridation of Si_1-xGe_x Surface」です．

ICSI-7のページ：http://www.icsi7.com/

問い合わせ先

電気通信研究所
ナノ・スピン実験施設

ナノヘテロプロセス研究室

（教授）室田淳一

TEL：022-217-5548